Projet abouti : PULSARCELL
Mise en œuvre d’une technologie d’immersion plasma pour la fabrication de cellules solaires silicium haute efficacité
Retenu dans le cadre du 12ème appel à projets du Fond Unique Interministériel (FUI) pour son contenu innovant, le projet PULSARCELL vise la conception et la mise sur le marché d’un nouveau procédé d’une gamme d’équipements permettant de réaliser des cellules solaires silicium haute efficacité à partir d’une technologie de dopage par immersion plasma. Soutenu et labellisé par le pôle de compétitivité Capenergies, le projet Pulsarcell d’un budget de 3,4 M€ a pu bénéficier d’aides publiques dans le cadre du FUI 12.
Ce projet de R&D collaboratif a mobilisé sur 2 années 1 centre de recherche, 1 ETI et 2 PME dont Ion Beam services (IBS). Membre du pôle Capenergies depuis 2011 et leader européen de l’implantation ionique, IBS est une société spécialisée dans les équipements de dopage pour la fabrication de composants électroniques et de cellules solaires. Sa technologie unique “PULSION” permet aux fabricants de cellules d’accéder aux avantages de l’implantation ionique (précision – reproductibilité et uniformité du dopage pour améliorer les rendements de production – fabrication aisée d’émetteurs sélectifs et des dopages des cellules à contact face arrière pour augmenter le taux de conversion…) avec une productivité et un coût de revient identique aux technologies concurrentes de dopage par diffusion.
Le dopage des cellules photovoltaïques par immersion PLASMA
Le marché mondial du photovoltaïque est en très forte croissance depuis plus de 10 ans. La baisse des coûts des modules et des onduleurs est supérieure à 10 % par an et les perspectives sont très importantes à la fois au niveau national et international. Ainsi pour rester une solution compétitive, les enjeux pour les cellules solaires à base de Silicium sont une augmentation de l’efficacité des cellules ainsi que la réduction de leurs coûts.

Le dopage par immersion plasma consiste à utiliser un champ électrique afin de permettre aux impuretés d’obtenir suffisamment d’énergie pour pénétrer dans le matériau à doper. « Le procédé par plasma étant très différent de l’implantation classique par faisceau et n’étant pas sélectif au niveau des espèces dopantes implantées, la question de la faisabilité se posait. », précise Laurent Roux.
Les résultats obtenus ont montré que ce procédé peut avantageusement remplacer les procédés standards de diffusion sur des substrats industriels pour atteindre de très haut rendement tout en conservant un procédé de fabrication à la complexité limitée.
Capenergies : un accompagnement sur le long terme
« L’apport du pôle a été important et le sera également pour la suite que nous voulons donner au projet, par la labellisation et l’accès à des financements pour notre nouveau projet portant cette fois sur la validation d’une machine industrielle développée par IBS», conclut Laurent Roux.
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